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基频反射膜等离子体烧蚀对传输光束的影响研究的中期报告 本研究旨在探究基频反射膜等离子体烧蚀对传输光束的影响。通过刻蚀不同深度的基频反射膜样品，观察样品表面的形态变化，并通过光谱测量分析不同深度的基频反射膜样品对光束的反射率和透过率的变化情况。 首先，我们选取了不同厚度的基频反射膜作为初始样品，并使用氩气等离子体刻蚀技术刻蚀样品，以模拟常见的实际应用情况。实验结果表明，随着样品刻蚀深度增加，样品表面出现了大量的细微坑洞和凸起，这些细微变化对样品的光学性能有一定的影响。 接着，我们使用光谱仪测量了刻蚀不同深度的基频反射膜样品对光束的反射率和透过率。实验结果发现，在烧蚀深度较浅的情况下，基频反射膜的反射率和透过率变化不大；但是在烧蚀深度较大的情况下，基频反射膜的反射率和透过率显著下降，表明等离子体烧蚀对基频反射膜的光学性能产生了影响。 最后，我们分析了影响基频反射膜光学性能的因素，包括气体压力、刻蚀时间和刻蚀深度等，这些因素都会对样品表面形态和光学性能产生一定的影响。我们将在后续研究中继续探究这些因素的影响，并寻找更好的方法来提高基频反射膜的光学性能。