1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 行业资料
  5. 国内专利

反应腔室和镀膜设备.pdfVIP

  • 1
  • 0
  • 约9.45千字
  • 约 10页
  • 2023-09-14 发布于四川
  • 举报

反应腔室和镀膜设备.pdf

    本实用新型涉及磁控溅射技术领域，尤其涉及一种采用磁控溅射镀膜的反应腔室和镀膜设备,用以减少阳极消失、靶溅射不均匀等原因引起的成膜问题。其中该反应腔室包括：腔室本体；设置于腔室本体内2+2n个靶，n为大于等于0的整数；中频电源，与相同的2个靶电连接，其中：连接同一中频电源的两个靶构成孪生靶；第一驱动装置和第二驱动装置，分别连接一对孪生靶中的一个靶的转轴，孪生靶中的一个沿第一方向旋转，孪生靶中的另一个沿第二方向旋转，第一方向和第二方向相反。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 210420140 U (45)授权公告日 2020.04.28 (21)申请号 20192

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >