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一种光刻胶旋涂设备.pdfVIP

一种光刻胶旋涂设备.pdf

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    本实用新型公开了一种光刻胶旋涂设备，属于半导体制造领域，所述设备至少包括：工作腔体，以形成工作腔室；旋转单元，所述旋转单元包括容纳槽，所述容纳槽容纳晶圆；喷胶单元，位于所述晶圆的一侧，且允许所述喷胶单元远离或靠近所述晶圆；以及预烘单元，设置在所述工作腔室内，所述预烘单元和所述喷胶单元位于所述晶圆的同一侧，且所述预烘单元与所述喷胶单元交替移至所述晶圆上。本实用新型提供的一种光刻胶旋涂设备，能够提高光刻胶的覆盖均匀性。

    (19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 219676441 U (45)授权公告日 2023.09.12 (21)申请号 202320107743.3 (22)申请日 2023.02.03 (73)专利权人 合肥晶合集成电路股份有限公司 地

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