射频电极组件和等离子体处理设备.pdfVIP

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  • 2023-09-14 发布于四川
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一种用于等离子体处理设备的射频电极组件和等离子体处理设备,其中,用于等离子体处理设备的射频电极组件包括:基座,基座内设置有第一流体通道,第一流体通道连接第一流体源;位于基座上的静电夹盘;位于静电夹盘外围的聚焦环;位于基座周围的热传导环,热传导环至少部分包围基座,热传导环位于聚焦环下方,热传导环内设置有第二流体通道,第二流体通道连接第二流体源,热传导环与聚焦环之间能够进行热传导。所述等离子体处理设备能够对待处理基片边缘区域聚合物的分布进行调节。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 111326390 A (43)申请公布日 2020.06.23 (21)申请号 20191

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