一种有机半导体材料溶剂退火炉.pdfVIP

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2023-09-15 发布于四川
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一种有机半导体材料溶剂退火炉.pdf

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本实用新型公开了有机半导体材料加工技术领域的一种有机半导体材料溶剂退火炉。所述退火炉由溶剂退火炉密封盖和溶剂退火炉主体两部分组成。其中，溶剂退火炉密封盖包括上、下连接的容器密封层和容器固定层，容器固定层底侧设置基底固定凹槽，用于固定样品基底，溶剂退火炉主体为四个侧板和一个底板围成的立方体，四个侧板中的一个或多个的外表面标有溶剂体积刻度。本实用新型可以对使用旋涂法沉积在基底表面的有机半导体分子在溶剂气氛下退火，进行分子构象和排布方面的优化，并精确控制退火条件获得更加优异的半导体性能。本实用新型操作

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 210420258 U (45)授权公告日 2020.04.28 (21)申请号 20192