原创力文档- 1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
- 2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
- 3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本发明提供一种射频磁控溅射设备，其包括：腔体、溅射组件、基座、支撑轴、挡板及阳极压环；所述溅射组件位于腔体顶部；所述基座位于腔体内，用于承载基板；所述支撑轴一端与基座底部连接，另一端向下延伸到腔体外部；所述挡板和阳极压环位于腔体内，挡板自溅射组件外围向下延伸到基座外围；所述阳极压环延伸到基板边缘上方，所述阳极压环上均匀间隔设置有多个开口朝上的凹槽。本发明通过在阳极压环上设置多个凹槽，使得在有限的空间内，阳极压环的表面积大大增加，延长其使用寿命，有助于提高射频溅射速率和稳定性，且有助于提高设备产出
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116752112 A
(43)申请公布日 2023.09.15
(21)申请号 202311034895.6
(22)申请日 2023.08.17
(71)申请人 上海陛通半导体能源科技股份有限
文档评论（0）