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本申请公开了一种曝光分辨率优化方法、装置、电子设备及存储介质,涉及光刻领域,本申请将光刻系统的可调曝光参数和可调曝光参数的曝光结果输入至预设优化模型得到目标参数,其中,可调曝光参数至少包括光源相位;基于目标参数对光刻系统进行调节形成新曝光参数的光刻系统;基于新曝光参数的光刻系统进行曝光得到新的曝光结果,将目标参数作为新的可调曝光参数,基于新的可调曝光参数和新的曝光结果返回执行将光刻系统的可调曝光参数和可调曝光参数的曝光结果输入至预设优化模型得到目标参数的步骤。本申请实施例,加入了光源相位作为可调
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116755297 A
(43)申请公布日 2023.09.15
(21)申请号 202311037238.7
(22)申请日 2023.08.17
(71)申请人 鹏城实验室
地址 518000
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