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一种晶片的清洗烘干设备.pdfVIP

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  • 2023-09-16 发布于四川
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一种晶片的清洗烘干设备.pdf

    本实用新型涉及晶片清洗烘干技术领域，具体为一种晶片的清洗烘干设备，包括底板以及安装于底板上端的支撑架体，支撑架体上端设有清洗烘干机构；清洗烘干机构包括有操作箱体、清水槽、五个超声清洗槽、超声发生器、烘干槽、安装槽、三个石英加热管、烘干部、运动部以及连接部；操作箱体安装于支撑架体上端，清水槽设置于操作箱体一侧；烘干部包括有电机、主动转动块、电动推杆、安装轴、轴承座以及从动转动块；运动部包括有四个支撑杆、固定板、两个气缸、安装板、直线滑台以及两个挂钩。本实用新型不仅避免对清洗完成的晶片造成二次污染，

    (19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 219696408 U (45)授权公告日 2023.09.15 (21)申请号 202320819602.4 (22)申请日 2023.04.13 (73)专利权人 珠海东精大电子科技有限公司 地址

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