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镍铜基薄膜的可控制备与应用研究的中期报告 本文旨在报告镍铜基薄膜的可控制备和应用研究的中期进展。 镍铜合金薄膜具有很广泛的应用领域，可以用于微电子器件、传感器、防腐蚀涂层、磁性存储、光学材料等方面。镍铜合金薄膜的制备方法有很多种，包括物理气相沉积法、化学气相沉积法、溅射法、电化学沉积法等。而在本研究中，我们采用了射频溅射法制备镍铜合金薄膜，并研究了薄膜的结构、表面形貌、电学性质和磁学性质等方面的特性变化。 通过SEM和XRD分析，我们发现镍铜薄膜的晶粒尺寸和结晶度随着溅射功率的增加而增加，表面形貌由均匀的晶粒逐渐变得凹凸不平。同时，随着溅射功率的增加，薄膜的电阻率逐渐降低，磁饱和磁感应强度和居里温度逐渐增加。这些结果表明溅射功率的不同控制了薄膜的结晶度和电磁性能。 此外，我们也探索了镍铜合金薄膜在传感器中的应用。我们制备了一种基于镍铜合金薄膜的气敏传感器，该传感器可用于检测特定气体的浓度。我们研究了该传感器的灵敏度、选择性和稳定性，并发现该传感器具有良好的性能，可用于实际的气体检测工作。 总体而言，本研究通过射频溅射法制备了可控的镍铜合金薄膜，并研究了其结构和电磁性质。我们还发现镍铜合金薄膜在传感器方面有很多潜在应用。未来的研究将继续探索镍铜合金薄膜的应用领域，并探究新的制备方法。