一种CMP抛光垫及其制备方法.pdfVIP

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2023-09-20 发布于四川
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一种CMP抛光垫及其制备方法.pdf

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本申请涉及一种抛光材料，具体公开了一种CMP抛光垫及其制备方法。一种CMP抛光垫的制备方法，包括以下步骤：将部分溶剂先进行搅拌，加入部分助剂，搅拌均匀后提升转速，接着加入部分助剂，搅拌均匀，得到混合料A；将剩下的溶剂和剩下的助剂搅拌均匀，在搅拌的过程中，缓慢加入部分聚氨酯树脂，搅拌均匀，再缓慢加入碳粉，搅拌均匀后提升转速，继续搅拌，接着再加入部分聚氨酯树脂，搅拌均匀，得到混合料B；将混合料A加入到混合料B中，搅拌均匀，再加入剩下的聚氨酯树脂，搅拌混合均匀，得到混合料C，过滤，真空脱泡，得到聚氨酯

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116766077 A (43)申请公布日 2023.09.19 (21)申请号 202310853529.7 (22)申请日 2023.07.12 (71)申请人万桦（常州）新材