用于在光刻对准设备中测量强度的系统和方法.pdfVIP

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2023-09-20 发布于四川
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用于在光刻对准设备中测量强度的系统和方法.pdf

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一种量测系统，包括辐射源、可调整的衍射元件、光学系统、光学元件、和处理器。辐射源产生辐射。可调整的衍射元件使辐射衍射以产生第一辐射束和第二辐射束。第一束和第二束分别具有不同的第一非零衍射阶和第二非零衍射阶。光学系统将第一束和第二束朝向目标结构引导，使得分别基于第一束和第二束产生辐射的第一散射束和第二散射束。量测系统调整第一散射束与第二散射束的相位差。光学元件使第一散射束和第二散射束在产生检测信号的成像检测器处干涉。处理器接收并分析检测信号以基于经调整的相位差确定目标结构的性质。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116783556 A (43)申请公布日 2023.09.19 (21)申请号 202280010440.8 (74)专利代理机构中科专利商标代理有限责任