一种纳米孪晶银材料及其制备方法.pdfVIP

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本发明提供了一种纳米孪晶银材料及其制备方法,该制备方法包括如下步骤:步骤S1,对基板进行清洗,干燥;步骤S2,靶材选用银靶,将基板和靶材放入磁控溅射设备中,抽真空后,对基板施加负偏压进行直流磁控溅射沉积,其中,基板偏压为‑50~‑200V,基板温度为25~50℃,氩气流量为30~50sccm,溅射室真空度为0.3~1.0Pa,沉积时间为15‑90min。采用本发明的技术方案,制备得到的纳米孪晶银材料中具有高密度的纳米孪晶,孪晶界占比90%,兼具高导电和高导热性能的条件下,提高了材料的硬度、抗电

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116770247 A (43)申请公布日 2023.09.19 (21)申请号 202310758841.8 B82Y 30/00 (2011.01) (22)申请日 2023.06.

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