晶体硅太阳能电池生产线刻蚀工序介绍.docx

晶体硅太阳能电池生产线刻蚀工序介绍 一、刻蚀工序根本作用 目前常规太阳电池的生产流程如下： 刻蚀作为太阳电池生产中的第三道工序，其主要作用是去除集中后硅片四周的 N 型硅，防止漏电。刻蚀一般状况下和去 PSG 联系在一起，去 PSG 顾名思义，其作用是去掉集中前的磷硅玻璃。反响方程式如下： SiO2+6HF=H2SiF6+2H2O 具体的刻蚀示意图如下： 二、刻蚀的根本分类以及一般工艺流程 目前，晶体硅太阳电池一般承受干法和湿法两种刻蚀方法。下面我们分开介绍两种刻蚀方法的差异： 干法刻蚀 干法刻蚀夜叫等离子刻蚀。即承受等离子体轰击的方法进展的刻蚀。 随着温度的上升，一般物质依次表现为固体、液体