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- 2023-09-22 发布于四川
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本实用新型公开了一种新型活性烂花雕印共同印花面料,包括由多个循环织造的针织面料单元组成的织物本体,织物本体上设置有活性印花层,活性印花层上设置有雕印印花层,雕印印花层上设置有烂花印花层,结合活性工艺、雕印工艺、烂花工艺于一体形成独特的层次效果,风格新颖,是面料上能够展现更多的图案;针织面料单元由4路纱线针织而成,第1‑4路纱线均同时采用40D的单孔涤纶丝和40S的人棉纱,第1‑4路中的所有纱线线圈均为成圈结构,线圈结构稳定;单孔涤纶丝包括的中心处设置有通孔,单孔涤纶丝的侧面上开设有与通孔相连通的
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210506949 U
(45)授权公告日
2020.05.12
(21)申请号 20192
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