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- 2023-09-23 发布于四川
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本申请涉及一种阵列基板的色阻互叠测量方法，包括：提供阵列基板，阵列基板包括衬底、形成于衬底上的驱动阵列层和位于驱动阵列层背离衬底一侧的色阻层，色阻层包括多个色阻单元，相邻的两个色阻单元之间沿第一方向相互交叠，且相邻的两个色阻单元的交叠区域在衬底上的正投影覆盖数据线在衬底上的正投影，其中，至少部分色阻单元的非交叠区域设置有开口；测量相邻的两个色阻单元的开口之间的距离；如果该距离与预设距离的差值小于或者等于允许误差，则确定色阻单元的互叠宽度满足设计要求。本申请可以在色阻异常时及时拦检调整，有效测量相
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115079476 A
(43)申请公布日 2022.09.20
(21)申请号 202210551410.X
(22)申请日 2022.05.18
(71)申请人 滁州惠科光电科技有限公司
地址 2
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