一种可再生展青霉素吸附剂及其制备方法.pdfVIP

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2023-09-23 发布于四川
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一种可再生展青霉素吸附剂及其制备方法.pdf

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本发明公开了一种可再生展青霉素吸附剂及其制备方法，本发明通过在g‑C3N4材料表面接枝‑SH，提高其对PAT的吸附性能，同时，利用g‑C3N4材料在可见光下的光催化效应，通过“避光吸附‑光催化再生”过程，实现吸附剂的循环利用，降低吸附剂的成本；与目前普通巯基功能化PAT吸附剂相比，具有光催化活性的巯基化g‑C3N4不仅具有高吸附容量和选择性，同时解决了一直以来备受关注的循环使用问题，有效降低了吸附剂成本，有利于产业化应用推广。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116786084 A (43)申请公布日 2023.09.22 (21)申请号 202310656604.0 B01J 37/08 (2006.01)