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本发明涉及一种铜表面原位引发制备三唑缓蚀聚合膜的方法，将丙烯酸丙炔酯和对甲苯磺酰叠氮溶解在溶剂中，在第一催化剂作用下进行反应，然后将反应产物进行旋蒸，用萃取剂萃取提纯后，得到含有三唑环的可聚合单体；将预处理好的铜片浸泡在引发剂溶液中，让引发剂在铜片表面组装，洗涤后，得到表面组装有引发剂的铜片；在惰性气氛下，将表面组装有引发剂的铜片和含有三唑环的可聚合单体在第二催化剂的作用下进行聚合反应，洗涤，干燥后，得到三唑缓蚀聚合膜。与现有技术相比，本发明在不影响铜的使用性能的前提下，利用表面引发原子转移自由
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116791084 A
(43)申请公布日 2023.09.22
(21)申请号 202310764027.7
(22)申请日 2023.06.27
(71)申请人 上海电力大学
地址 201306
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