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- 2023-09-23 发布于四川
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本发明涉及光学元件全口径抛光局部区域恒温加工装置及抛光机,抛光局部区域恒温加工装置包括:环形工件盘,所述环形工件盘中部贯通有作业区,其靠近所述作业区形成有限位台;分离部,所述分离部放置于所述限位台上,且位于所述作业区上方,其中部开设有工件孔,所述工件孔用于放置光学元件;以及分离罩,所述分离罩罩设所述光学元件,其用于和所述分离部配合隔离外部温度。本发明公开提供了光学元件全口径抛光局部区域恒温加工装置,通过分离部和分离罩将光学元件与加工车间环境隔离,车间温度的波动不会影响光学元件周围的温度,从而避免
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114986325 A
(43)申请公布日 2022.09.02
(21)申请号 202210657794.3 B24B 41/06 (2012.01)
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