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2023-09-23 发布于四川
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基板处理装置.pdf

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本实用新型提供一种基板处理装置，能够提高与对基板进行的涂布液的涂布有关的便利性。抗蚀剂涂布装置具备：旋转保持盘，其保持基板来使基板旋转；杯，其以包围被保持于旋转保持盘的基板的方式配置；以及涂布液喷嘴，其构成为能够对基板喷出涂布液。另外，抗蚀剂涂布装置具备去除液喷嘴和喷嘴追踪摄像机，该喷嘴追踪摄像机通过安装于保持涂布液喷嘴的喷嘴臂来以追踪涂布液喷嘴的方式移动，该喷嘴追踪摄像机构成为能够拍摄涂布液喷嘴。并且，抗蚀剂涂布装置具备处理空间用摄像机，该处理空间用摄像机构成为能够拍摄旋转保持盘上的处理空间。

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 219723334 U (45)授权公告日 2023.09.22 (21)申请号 202320086586.2 B05B 13/04 (2006.01)