铝合金电弧离子镀n膜层的耐腐蚀性能.docxVIP

铝合金电弧离子镀n膜层的耐腐蚀性能 由于汉族汉族具有低密度和高比强度的特点，它被广泛应用于航空航天、交通工具、通信工具和机械工程等领域。然而,其表面硬度低、耐腐蚀性能差等缺点限制了它在承受摩擦磨损环境中的应用。对铝合金进行表面处理,可以克服这些缺点。常规的表面处理有阳极氧化和电镀硬铬等,遗憾的是,这些方法只能完成单一的目的,如果材料或构件在承受既有腐蚀又存在摩擦磨损的环境下,这些方法受到了限制。过渡族金属氮化物如TiN、CrN、(Ti,Al)N等具有较高的硬度和优异的耐磨性和耐蚀性,是很好的硬质防护涂层。这些硬质涂层已经非常成功地在不锈钢、高速钢、硬质合金刀具上沉积,而在像铝合金这样硬度较低的衬底上沉积硬度较高的硬质涂层,目前研究的不多。不同于前面的衬底,它需要研究硬度的过渡和涂层与衬底的界面问题,特别是涂层的腐蚀性能需要更详细的研究。金属氮化物本身的化学稳定性很好,不易遭受化学介质的侵蚀,然而,一些物理气象沉积膜层的方法如离子镀、溅射,常常在镀层中存在贯通的针孔、大颗粒和镀层缺陷等,这使镀层的腐蚀过程复杂化,往往涉及镀层与衬底之间的电化学过程。另外,铝合金衬底与钢铁衬底不同,腐蚀溶液在针孔处与衬底反应产物不同,可能对膜层的脱落过程产生不同的影响。鲜晓斌等研究了在45#钢上沉积的TiN/Ti镀层的腐蚀特性,并指出,镀层的耐腐蚀性与施加给衬底的偏压有关,镀层的针孔是诱发镀层和衬底材料体系发生点蚀、电偶腐蚀的主要缺陷。为了减少镀层的这些缺陷,提高镀膜的耐腐蚀性,M.P.Brady等采用在生成膜的表面氮化的方式抑制镀层缺陷;A.Conde等通过周期性改变氮分压获得纳米多层结构,缩小镀膜的针孔尺寸。也有通过增加镀层厚度、添加金属过渡层和镀多层膜来降低缺陷密度。本实验将继续探讨镀层的腐蚀特性,为改进PVD镀层的耐腐蚀性提供帮助。 1 电化学性能测试 实验用衬底材料为7075铝合金,加工成17mm×14 mm×6 mm的长方形试样,采用机械研磨,最后喷砂处理。试样经丙酮溶液超声清洗后,置于真空沉积室内。实验所用的膜层是在MIP-8-800型电弧离子镀制备的,采用50%Ti-Al的合金靶。沉积前,在–800V偏压下对衬底进行离子轰击溅射清洗5 min。沉积过程中,占空比为30%,使用脉冲衬底偏压值为–400 V,电弧电压在20 V左右,电弧电流在60 A,靶与衬底的间距为20 cm,沉积时间为60 min。在其它相同的沉积条件下,改变气体流量,分别获得在N2分压为0.4,0.6和0.8条件下的膜层。 膜层的极化曲线和交流阻抗谱是利用电化学综合测试仪系统测得。测试时,试样为工作电极,饱和甘汞电极为参比电极,高纯石墨棒为辅助电极,腐蚀介质为3.5%的NaCl溶液,温度为室温。试样在腐蚀电解质溶液中浸泡1 h后,腐蚀电位稳定后开始进行电化学腐蚀试验。线性极化的电位扫描范围为±10mV(相对腐蚀电位),扫描速度为0.617 mV/s。交流阻抗谱的测量频率范围为10 mHz~100 kHz,扰动信号为±5 mV(相对腐蚀电位)。盐雾试验是在DF227型多用腐蚀试验箱中进行的,腐蚀溶液为5%NaCl饱和溶液,实验温度保持在35℃,腐蚀时间为160 h。 2 结果与讨论 2.1 极化曲线表面形貌 图1是3种不同N2气分压下制备的(Ti,Al)N膜层在3.5%NaCl溶液中测得的阳极极化曲线。由图1可见,3种膜层的腐蚀电位比较接近,约在–0.82 V左右。图2是上述膜层测定极化曲线后的表面形貌。由图2推测,膜层的腐蚀是局部的,发生在表面的大颗粒和针孔处。膜层的大颗粒来源于沉积膜层时金属熔滴,针孔是PVD技术沉积膜层不易避免的。这些结果表明,尽管(Ti,Al)N相很耐腐蚀,但由于膜层中存在大颗粒和针孔,针孔中的金属和大颗粒金属相与(Ti,Al)N相构成电偶腐蚀,膜层的腐蚀在局部区域进行。 2.2 电化学阻抗谱 在3.5%NaCl溶液中所测得的电化学阻抗谱如图3和图4所示。由图3的Nyquist曲线可见,不同氮气分压下所制备的(Ti,Al)N膜层存在明显的容抗弧,而且,随着沉积N2分压不同,膜层容抗弧的半径明显变化。在N2分压为0.4时,容抗弧的半径较小;N2分压增加至0.6和0.8时,容抗弧的半径明显增大。一般认为容抗弧的半径越大,材料的抗腐蚀性能越好。容抗弧半径小,表明该膜层腐蚀反应的电荷转移电阻较小,腐蚀更容易进行。由图4的Bode曲线可见,膜层仅有一个时间常数,这表明所有镀层都较为完整、致密,孔隙较少。沉积膜层的X射线衍射谱表明,在N2分压为0.4时,膜层有(Ti,Al)2N和(Ti,Al)N两相组成;在N2分压为0.6和0.8时,膜层仅有(Ti,Al)N存在。图3的结果也说明,沉积膜层腐蚀性能与膜层的微观组织有关。 分析表明,对于这种膜层,可能存在