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- 2023-09-24 发布于四川
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本实用新型涉及一种制备纳米粉体的直流电弧装置,属于纳米粉体制备技术领域。该装置包括工作台架、制粉室、水冷阴极、阳极、水冷铜坩埚、沉积室、步进电机和罗茨泵,制粉室、沉积室均设置在工作台架上,制粉室的顶端开设有进气口,进气口外接进气管,制粉室的底壁开设有通孔Ⅰ,步进电机设置在工作台架上,步进电机的输出轴上固定设置有支撑杆,支撑杆穿过制粉室底壁的通孔延伸至制粉室腔体内,支撑杆的顶端固定设置有水冷铜坩埚,阳极的底端竖直设置在水冷铜坩埚内,阳极的正上方竖直设置有水冷阴极,水冷阴极的另一端固定设置在制粉室顶
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210498383 U
(45)授权公告日
2020.05.12
(21)申请号 20192
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