实验磁控溅射法制备薄膜材料.docx

实验磁控溅射法制备薄膜 材料 The following text is amended on 12 November 2020. 实验 4 磁控溅射法制备薄膜材料 一、实验目的 1. 掌握真空的获得 2. 掌握磁控溅射法的基本原理与使用方法 3. 掌握利用磁控溅射法制备薄膜材料的方法 二、实验原理 磁控溅射属于辉光放电范畴，利用阴极溅射原理进行镀膜。膜层粒子来源于辉 光放电中，氩离子对阴极靶材产生的阴极溅射作用。氩离子将靶材原子溅射下来 后，沉积到元件表面形成所需膜层。磁控原理就是采用正交电磁场的特殊分布控制 电场中的电子运动轨迹，使得电子在正交电磁场中变成了摆线运动，因而大大增加 了