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- 2023-09-27 发布于四川
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本发明提供一种保护膜形成用膜(13)，其为能量射线固化性的保护膜形成用膜，所述保护膜形成用膜(13)与硅晶圆之间的粘着力为3N/25mm以上，对所述保护膜形成用膜(13)照射紫外线而制成保护膜时，该保护膜的剪切强度为10.5N/3mm□以上。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 111279463 A
(43)申请公布日
2020.06.12
(21)申请号 2
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