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一种用于化学机械抛光的承载头及化学机械抛光设备.pdfVIP

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  • 2023-09-28 发布于四川
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一种用于化学机械抛光的承载头及化学机械抛光设备.pdf

    本实用新型涉及化学机械抛光技术领域，公开了一种用于化学机械抛光的承载头及化学机械抛光设备，包括连轴盘、平衡架、承载盘、柔性膜、环状压盘，平衡架的中轴部可滑动地密封设置于连轴盘的中心通孔内并可以通过其底盘部及翼缘部带动承载盘相对于连轴盘上下移动，所述柔性膜具有边缘皱壁和至少一个内皱壁，并且所述边缘皱壁及内皱壁中的至少一个被环状压盘夹紧至承载盘以形成可调压腔室，使得可以通过控制平衡架的竖直位置和可调压腔室的压力来调节施加于基板的压力。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 210550369 U (45)授权公告日 2020.05.19 (21)申请号 20192

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