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- 2023-09-28 发布于四川
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本实用新型涉及化学机械抛光后处理技术领域，公开了一种用于化学机械抛光的承载头及化学机械抛光设备，包括连轴盘、平衡架、承载盘、柔性膜，所述平衡架具有中轴部以及形成于中轴部底端的底盘部，所述中轴部可滑动地设置于连轴盘的中心通孔内并且所述底盘部连接至所述承载盘以带动承载盘相对于连轴盘上下移动，所述柔性膜的一部分被夹紧至承载盘下部以形成密封腔室，所述的底盘部的下表面设置有消波层。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210550372 U
(45)授权公告日
2020.05.19
(21)申请号 20192
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