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- 2023-09-29 发布于四川
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本实用新型公开了一种去除氧化层的清洗装置包括机架、料仓、清洗机构和输送机构。料仓被配置为存放多个待清洗片，多个待清洗片层叠放置，清洗机构设在机架上，清洗机构包括间隔开设置的两个激光清洗模块，两个激光清洗模块可分别清洗待清洗片的正反两面，输送机构设在机架上，输送机构被配置为将待清洗片输送至清洗机构。输送机构包括推料模块、转向模块和输送模块。推料模块被配置为将待清洗片推出料仓且运动至转向模块，转向模块被配置带动待清洗片由水平状态转动至竖直状态且止抵在输送模块上，输送模块设在机架上，输送模块可将处于竖
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210546801 U
(45)授权公告日
2020.05.19
(21)申请号 20192
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