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本发明提供一种真空吸附手、基底交接装置及光刻机。所述真空吸附手包括吸附轴、吸头、主体支架、驱动组件及防转结构。所述基底交接装置包括底座和对称分布于所述底座的若干所述真空吸附手。所述光刻机包括基底台，所述基底台设有基底交接区，所述基底台内安装有所述基底交接装置，所述基底交接装置位于所述基底交接区的下方，所述基底交接区表面对应于所述真空吸附手的位置开有通孔；交接基底时，所述真空吸附手可经由所述通孔向上延伸。本发明提供的基底交接装置提高了自身空间利用率，降低了空间尺寸；另外，该基底交接装置采用圆形的气
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 109597279 A
(43)申请公布日
2019.04.09
(21)申请号 20171
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