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本申请公开了一种光刻机工件台的自抗扰运动控制方法，涉及光刻机技术领域，包括：通过前馈环节迭代处理光刻机工件台位移的实际误差，得到前馈输出；通过反馈环节处理所述光刻机工件台的实际位移与期望位移，得到反馈输出；所述反馈环节采用自抗扰控制策略；根据所述前馈输出与所述反馈输出，确定所述光刻机工件台的期望加速度；根据所述光刻机工件台的所述期望加速度与实际加速度控制所述光刻机工件台运动。该方法能够实现对光刻机工件台的高精密控制。本申请还公开了一种光刻机工件台的自抗扰运动控制装置、设备以及计算机可读存储介质，
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116819966 A
(43)申请公布日 2023.09.29
(21)申请号 202310782567.8
(22)申请日 2023.06.29
(71)申请人 无锡物联网创新中心有限公司
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