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本发明涉及半导体技术领域,且公开了一种钴钌靶材及其制备方法,本发明以纯度为2N8(99.8%)的钴锭和纯度为3N(99.9%)的钌锭经过真空蒸馏和电弧熔炼进行纯化,得到高纯度的高纯度的4N(99.99%)钴锭和4N(99.99%)钌锭;然后采用旋转热轧工艺,得到晶粒尺寸均匀、晶粒取向度高的钴钌靶材,克服传统轧制工艺制备的靶材会出现晶粒尺寸不均匀和晶粒取向杂乱等问题,本发明有效地提高靶材晶粒尺寸均匀度和晶粒取向度。并且具有制备工艺简单,能大幅降低生产周期,降低生产成本,适合大批量生产的优点。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116815138 A
(43)申请公布日 2023.09.29
(21)申请号 202310848020.3 C22B 9/04 (2006.01)
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