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第一章 常用半导体器件
半导体基础知识
本征半导体
一、半导体
概念:导电能力介于导体和绝缘体之间。
本征半导体:纯净的具有晶体结构的半导体。二、本征半导体的晶体结构(图 1.1.1)
晶格:晶体中的原子在空间形成排列整齐的点阵。
共价键
三、本征半导体中的两种载流子(图1.1.2)
本征激发:在热激发下产生自由电子和空穴对的现象。
空穴:讲解其导电方式;
自由电子
复合:自由电子与空穴相遇,相互消失。
载流子:运载电荷的粒子。四、本征半导体中载流子的浓度
动态平衡:载流子浓度在一定温度下,保持一定。
载流子浓度公式:
n ? p
i i
? K T 3 / 2 e ? EGO/( 2 kT ) 1
自由电子、 空穴浓度( cm -3 ), T 为热力学温度, k 为波耳兹曼常数
GO( 8.63 ?10?5 eV / K ),E 为热力学零度时破坏共价键所需的能量(eV),又称禁带宽度,
GO
K1 是与半导体材料载流子有效质量、有效能级密度有关的常量。
杂质半导体
一、概念:通过扩散工艺,掺入了少量合适的杂质元素的半导体。二、N 型半导体(图 1.1.3)
形成:掺入少量的磷。
多数载流子:自由电子
少数载流子:空穴
施主原子:提供电子的杂质原子。三、P 型半导体(图 1.1.4)
形成:掺入少量的硼。
多数载流子:空穴
少数载流子:自由电子
受主原子:杂质原子中的空穴吸收电子。
浓度:多子浓度近似等于所掺杂原子的浓度,而少子的浓度低,由本征激发形成, 对温度敏感,影响半导体的性能。
PN 结
一、PN 结的形成(图 1.1.5)
扩散运动:多子从浓度高的地方向浓度低的地方运动。
空间电荷区、耗尽层(忽视其中载流子的存在)
漂移运动:少子在电场力的作用下的运动。在一定条件下,其与扩散运动动态平衡。
对称结、不对称结:外部特性相同。二、PN 结的单向导电性
PN 结外加正向电压:导通状态(图 1.1.6)正向接法、正向偏置,电阻 R 的作用。
(解释为什么 Uho 与 PN 结导通时所表现的外部电压相反:PN 结的外部电压为 U
即平时的 0.7V,而内电场的电压并不对PN 结的外部电压产生影响。)
PN 结外加反向电压:截止状态(图 1.1.7)反向电压、反向偏置、反向接法。形成漂移电流。
三、PN 结的电流方程
方程(表明PN 结所加端电压u 与流过它的电流i 的关系):
i ? I
S
u
(eUT ?1) U
T
? kT
q
q 为电子的电量。
平衡状态下载流子浓度与内电场场强的关系:
PN 结电流方程分析中的条件:
外加电压时PN 结电流与电压的关系: 四、PN 结的伏安特性(图 1.1.10)
正向特性、反向特性
反向击穿:齐纳击穿(高掺杂、耗尽层薄、形成很强电场、直接破坏共价键)、雪崩击穿(低掺杂、耗尽层较宽、少子加速漂移、碰撞)。
五、PN 结的电容效应
b势垒电容:(图 1.1.11)耗尽层宽窄变化所等效的电容,C (电荷量随外加电压而增多或减少,这种现象与电容器的充放电过程相同)。与结面积、耗尽层宽度、半导体介电常数及外加电压有关。
b
2. 扩散电容:(图 1.1.12)
平衡少子:PN 结处于平衡状态时的少子。
非平衡少子:PN 结处于正向偏置时,从P 区扩散到N 区的空穴和从N 区扩散到P 区的自由电子。
浓度梯度形成扩散电流,外加正向电压增大,浓度梯度增大,正向电流增大。
扩散电容:扩散区内,电荷的积累和释放过程与电容器充放电过程相同。i 越大、τ越大、UT 越小,Cd 就越大。
结电容C j ? Cb ? Cd pF 级,对于低频忽略不计。
半导体二极管
(几种外形)(图 1.2.1)
半导体二极管的几种常见结构(图 1.2.2)
一、点接触型:电流小、结电容小、工作频率高。
二、面接触型:合金工艺,结电容大、电流大、工作频率低,整流管。三、平面型:扩散工艺,结面积可大可小。
四、符号
二极管的伏安特性
一、二极管的伏安特性
二极管和PN 结伏安特性的区别:存在体电阻及引线电阻,相同端电压下,电流小; 存在表面漏电流,反向电流大。
伏安特性:开启电压(使二极管开始导通的临界电压)(图 1.2.3)二、温度对二极管方案特性的影响
温度升高时,正向特性曲线向左移,反向特性曲线向下移。
室温时,每升高 1 度,正向压降减小 2~2.5mV;每升高 10 度,反向电流增大一倍。
二极管的主要参数
一、最大整流电流I :长期运行时,允许通过的最大正向平均电流。
F
二、最高反向工作电压UR:工作时,所允许外加的最大反向电压,通常为击穿电压的一半。三、反向电流IR:未击穿时的反向电流。越小,单向导电性越好;此值对温度敏感。
f四、最高工作频率 :上限频率,超过此值,结电容不能忽略。
f
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