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合金元素Si和Al对CrN薄膜结构及性能的影响的中期报告 摘要： 本研究旨在探究Si和Al作为合金元素对CrN薄膜结构及性能的影响。通过磁控溅射方法在K9玻璃基片上制备不同掺杂比例的CrN薄膜，采用X射线衍射（XRD）和原子力显微镜（AFM）对薄膜结构进行表征，在此基础上，对薄膜的硬度和摩擦系数进行测量，以研究Si和Al元素掺杂对CrN薄膜性能的影响。 研究结果表明，Si和Al掺杂对CrN薄膜的结构造成了显著的影响。当掺杂比例为5%时，CrN-Si薄膜的XRD衍射峰强度最强，CrN-Al薄膜的XRD衍射峰位置向低角度移动。对比未掺杂的CrN薄膜，Si和Al掺杂后的薄膜表面更加致密且晶粒细小。此外，Si和Al元素掺杂对薄膜硬度和摩擦系数也有一定影响。随着掺杂比例的增加，薄膜硬度出现先升高后下降的趋势，摩擦系数先减小后增大。 关键词： CrN薄膜；Si掺杂；Al掺杂；XRD；AFM Abstract: The purpose of this study is to investigate the effect of Si and Al alloy elements on the structure and properties of CrN films. CrN films with different dopant ratios were prepared on K9 glass s