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基于折线误差扩散的掩模合成方法、装置、设备及介质.pdfVIP

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  • 2023-10-04 发布于四川
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基于折线误差扩散的掩模合成方法、装置、设备及介质.pdf

    本发明涉及计算光刻技术领域，公开了基于折线误差扩散的掩模合成方法、装置、设备及介质，方法包括：获取复振幅全息图并提取其四个像素顶点；以四个像素顶点中任意一个像素顶点为端点，按照预设折线扫描路径对复振幅全息图进行扫描，每个像素点在被扫描过程中，像素点上的误差沿预设折线扫描路径向相邻像素点扩散；在扫描过程中，将预设折线扫描路径上的所有像素点的振幅更新为1，使得扫描经过的像素点成为纯相位像素点，得到复振幅全息图对应的纯相位全息图并对其进行离散化处理得到目标掩模。本发明通过增加扫描转折点，解决了扫描路径

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116841134 A (43)申请公布日 2023.10.03 (21)申请号 202311111053.6 (22)申请日 2023.08.31 (71)申请人 光科芯图 （北京）科技有限公司 地

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