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本发明公开了一种高度遮瑕的遮瑕膏及其制备方法。按质量百分比计，所述遮瑕膏包含以下组分：着色剂50％‑55％；柔润剂31％‑38％；乳化剂7％‑10％；保湿剂1％‑1.5％；抗氧化剂0.2％‑0.3％；植物精油0.01％‑0.02％以及防腐剂0.3％‑0.6％。所述遮瑕膏上妆后8小时彩妆面积占比无明显变化，使用12小时使用后仍具有持妆、保湿的功效，因此，说明所述遮瑕膏既能符合长时间常温贮存且不容易出油的需求，还具有高度遮瑕及清透的特点，并且还适用于敏感肌，温和无刺激，具有持妆、保湿、舒缓效果。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116831929 A
(43)申请公布日 2023.10.03
(21)申请号 202310851475.0 A61K 8/31 (2006.01)
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