原创力文档- 15
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- 2023-10-04 发布于四川
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本发明公开了一种气浴装置、温控系统以及曝光设备，其涉及光刻机技术领域。该气浴装置包括温控本体及匀流件；温控本体设有一次匀化流道及与一次匀化流道分别连通的进气口和出气口；匀流件设于一次匀化流道内，匀流件形成有温控区及与温控区连通的二次匀化流道，二次匀化流道与一次匀化流道连通；一次匀化流道用于使气体形成层流流场；二次匀化流道用于减小温控区中不同位置的流速差值，并使温控区内的流场以层流形式出现，从进气口流至出气口，减小气流扰动对成像质量的影响。本发明改进了气浴装置的结构，通过两级流速匀化、气流流场控制
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116841137 A
(43)申请公布日 2023.10.03
(21)申请号 202311111066.3
(22)申请日 2023.08.31
(71)申请人 光科芯图 （北京）科技有限公司
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