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- 2023-10-07 发布于四川
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本实用新型提供了一种腔体隔绝环，所述的腔体隔绝环包括环状主体和位于其底部的环状底座，所述的环状底座为环形凹槽结构，所述的环状主体与环状底座的外周面相接，所述的环状底座的外周壁上开设至少一个通孔。本实用新型提供的腔体隔绝环可以极大地改善PVD镀膜机的镀膜均匀性，通过将晶圆安装在本实用新型提供的腔体隔绝环内部，通过环状底座均匀分布的致密通孔，确保了腔体隔绝环内部的气流稳定，实现晶圆表面均匀镀膜。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210596245 U
(45)授权公告日
2020.05.22
(21)申请号 20192
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