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- 2023-10-09 发布于四川
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本公开内容涉及处理腔室、等离子体筛设备以及基板支撑设备。本公开内容总体上涉及用于控制在基板边缘附近的等离子体鞘层的设备。设备涉及包括具有边缘环电极的边缘环组件和具有夹持电极的静电吸盘的处理腔室和/或基板支撑件。边缘环组件定位为与静电吸盘相邻，诸如边缘环组件定位在静电吸盘的外部或周围。边缘环组件包括基部和定位在基部上方的帽，其中边缘环电极定位在帽与基部之间。边缘环电极的基部可以包括内凹槽和/或外凹槽，其中帽包括延伸到内凹槽和/或外凹槽中的一个或多个唇缘。一个或多个硅环和/或绝缘环定位为与边缘环组件
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210628242 U
(45)授权公告日
2020.05.26
(21)申请号 20192
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