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本发明公开了一种大面积DLC镀层均匀沉积方法，制膜过程中其镀件采用如下装挂方式：四片衬板围成空心方笼，且在相邻两衬板的直角连接处留设开口，使用时两镀件待镀面相对地分装在对设的一组衬板上，衬板四周超出镀件，超出部分与镀件的待镀面取平，模拟待镀面向外延伸；制膜过程中的负偏压施加于衬板和镀件上，使空心方笼周身四个方向都产生辉光放电，通过放电量叠加形成空心阴极放电效应镀膜区，采用电磁场增强PECVD法，借助空心阴极放电效应技术，制得符合静电耗散表面电阻值的掺Si类金刚石保护膜。本发明提供了一种均匀沉积指
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116855915 A
(43)申请公布日 2023.10.10
(21)申请号 202310782435.5 C23C 16/50 (2006.01)
(22)申请日 2023.06.
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