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- 2023-10-11 发布于四川
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一种用于晶片处理的卡盘，该卡盘抵消晶片的热膨胀的有害影响。而且，尽管晶片的热膨胀，卡盘和阴影掩模布置的组合仍维持掩模中的开口与晶片之间的相对对准。一种用于通过离子注入制造太阳能电池，同时在晶片的热膨胀期间维持注入的特征的相对对准的方法。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 108604568 A
(43)申请公布日
2018.09.28
(21)申请号 201780
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