vlsi系统导论课件设计基础.pdfVIP

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第三章 工艺与设计接口 1. 工艺对设计的制约与工艺抽象 1. 工艺对设计的制约 2. 工艺抽象 2. 设计规划 1. 几何设计规则 2. 电学设计规则 3. 设计规则在VLSI设计中的应用 1 3.1 工艺对设计的制约与工艺抽象 一条成 工艺线,各个工艺的参数都是一定的, 一般不允许轻易变更,而这些参数往往就成为我们设计 的制约因素。有时,我们不得不考虑:这条工艺线对我 的设计是否合适。 2 3.1.1 工艺对设计的制约 1. 最小加工尺寸和集成度对设计的制约 工艺加工的精度 (最小加工尺寸)限制了器件设计的最小尺寸、 电路的最高工作频率。 工艺线的最大加工面积限制了设计的规模。 2. 标准工艺流程对特殊工艺要求的制约 3. 工艺参数对设计的制约 第一个重要的参数是器件的阈值电压 第二个重要的参数是杂质层的电阻 第三个重要的参数是单位面积的电容值 阈值电压是决定系统电性能的基本参数,电阻、电容是决定 VLSI系统动态性能的重要参数。 3 3.1.2 工艺抽象 设计实践要求将工艺抽象成设计者熟悉的电学参数,将 工艺线的加工精度抽象成一个具体的规则设计规则 这样的抽象构成了工艺与设计的接口。 借助于这个接口,电路与系统的设计者不需要了解工艺 的具体细节,工艺制作者不需要了解电路与系统的细节。设 计者遵循接口规定进行设计,制作者保证工艺达到接口规定 的参数。 4 1. 掺杂浓度的描述  L  L R=  WX X W j j  为材料的电阻率,单位是ohm.cm  图3.1 方块电阻 R □= (方块电阻,sheet ) X j L R= R  □ W R= 8 R□

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