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第三章 工艺与设计接口
1. 工艺对设计的制约与工艺抽象
1. 工艺对设计的制约
2. 工艺抽象
2. 设计规划
1. 几何设计规则
2. 电学设计规则
3. 设计规则在VLSI设计中的应用
1
3.1 工艺对设计的制约与工艺抽象
一条成 工艺线,各个工艺的参数都是一定的,
一般不允许轻易变更,而这些参数往往就成为我们设计
的制约因素。有时,我们不得不考虑:这条工艺线对我
的设计是否合适。
2
3.1.1 工艺对设计的制约
1. 最小加工尺寸和集成度对设计的制约
工艺加工的精度 (最小加工尺寸)限制了器件设计的最小尺寸、
电路的最高工作频率。
工艺线的最大加工面积限制了设计的规模。
2. 标准工艺流程对特殊工艺要求的制约
3. 工艺参数对设计的制约
第一个重要的参数是器件的阈值电压
第二个重要的参数是杂质层的电阻
第三个重要的参数是单位面积的电容值
阈值电压是决定系统电性能的基本参数,电阻、电容是决定
VLSI系统动态性能的重要参数。
3
3.1.2 工艺抽象
设计实践要求将工艺抽象成设计者熟悉的电学参数,将
工艺线的加工精度抽象成一个具体的规则设计规则
这样的抽象构成了工艺与设计的接口。
借助于这个接口,电路与系统的设计者不需要了解工艺
的具体细节,工艺制作者不需要了解电路与系统的细节。设
计者遵循接口规定进行设计,制作者保证工艺达到接口规定
的参数。
4
1. 掺杂浓度的描述
L L
R=
WX X W
j j
为材料的电阻率,单位是ohm.cm
图3.1 方块电阻 R □= (方块电阻,sheet )
X
j
L
R= R
□
W
R= 8 R□
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