一种钕铁硼磁体及其制备方法.pdfVIP

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2023-10-14 发布于四川
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一种钕铁硼磁体及其制备方法.pdf

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本发明提供了一种钕铁硼磁体及其制备方法。钕铁硼磁体，其特征在于，包括钕铁硼基体、复合在钕铁硼基体上的第一膜层以及复合在第一膜层上的第二膜层；第一膜层为纯铝膜层，第二膜层为铝合金膜层；第一膜层的厚度为6.5μm～9μm，第二膜层的厚度为0.5μm～2μm。本发明提供的钕铁硼磁体的表面具有纯铝膜层和铝合金膜层，耐腐性能非常好。另外通过调整铝合金中铝元素的含量，使得纯铝膜层与铝合金膜层之间热膨胀系数相匹配，纯铝膜层和铝合金膜层的硬度相适应，进而提高了两种膜层之间的结合力。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116884725 A (43)申请公布日 2023.10.13 (21)申请号 202310947721.2 (22)申请日 2023.07.28 (71)申请人天津三环乐喜新材料有限公司地址