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本发明提供了一种炉管设备的工艺匹配方法,包括:提供基准和待匹配炉管设备;提供若干掺杂的监控晶圆,对其进行与掺杂相反类型的离子注入,将其分组为第一类监控晶圆和第二类监控晶圆;用基准炉管设备对第一类监控晶圆进行第一退火工艺,用待匹配炉管设备对第二类监控晶圆进行第二退火工艺;对第一类和第二类监控晶圆方块电阻进行测量;根据第一类和第二类监控晶圆方块电阻的差异,对第二退火工艺参数进行调整,使待匹配炉管设备的工艺结果匹配基准炉管设备。本发明通过引入离子注入后的退火工艺结果的拟合对不同炉管设备的退火工艺进行匹
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116884891 A
(43)申请公布日 2023.10.13
(21)申请号 202311155525.8
(22)申请日 2023.09.08
(71)申请人 粤芯半导体技术股份有限公司
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