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本申请实施例提供一种电子束曝光方法及装置，方法包括：获取曝光图形，根据曝光图形的尺寸确定参考网格包括的多个单元格的尺寸，将曝光图形设置在单元格的中心位置，其中，单元格的尺寸为电子束曝光的写场尺寸。设置参考矩形，参考矩形和参考网格的相对位置固定，这样就能够确定进行电子束曝光时多个写场的位置，从而将曝光图形设置在电子束曝光的写场的中心位置，使得全部的曝光图形能在每个写场的中心位置曝光，实现最佳的曝光效果，降低由于曝光图形曝光位置偏移从而导致的曝光形成的图形的尺寸不准确的概率，提高曝光图形的尺寸精确性
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116893579 A
(43)申请公布日 2023.10.17
(21)申请号 202310859215.8
(22)申请日 2023.07.13
(71)申请人 中国科学院微电子研究所
地址 1
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