一种热熔装置.pdfVIP

  • 4
  • 0
  • 约1.15万字
  • 约 10页
  • 2023-10-22 发布于四川
  • 举报
本申请提供了一种热熔装置,用于热熔底托片和Mylar膜,包括架体、吸附件及激光器;吸附件设置于架体上,且能吸附底托片和Mylar膜;激光器设置于架体上,且发射的激光能将位于吸附件上的底托片和Mylar膜热熔。通过吸附件将Mylar膜和底托片吸附到吸附件上,实现对Mylar膜和底托片的精准定位,由于吸附件对Mylar膜和底托片的吸附作用,从而使激光对Mylar和底托片焊接热熔时,焊接效果成型效果好。

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 219856047 U (45)授权公告日 2023.10.20 (21)申请号 202321176860.1 (22)申请日 2023.05.16 (73)专利权人 三一技术装备有限公司 地址 4

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档