半导体硅材料复习题.pdfVIP

一填空题 L 根据单晶硅的使用 目的不同 ，单晶硅的制备工艺也不同 ，主要的制备 工艺有两种 ，分 别 是 （区 熔炼法和切克劳斯基法 ） 。 3 .在热平衡状态半导体中 ，载流子的产生和复合的过程保持动态平衡 ， 从而使载流子浓度保持定值 ，则处于此种状态下的载流子为 平（衡载流 子 ）。处于非平衡状态的半导体 ，其载流子浓度也不再是nO和pO （此处0 是下标 ） ，可以比他们多出一部分 。比平衡状态多出来的这部分载流子 称 为 （非平衡载流子 ） 。 4 使纵向电