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提供了一种用于IPMC基膜粗化工艺的自动粗化装置，涉及材料制备技术领域，包括基座，驱动机构，进给调节机构，承载定位机构和辅助导轨机构；所述驱动机构设置于基座左侧来带动进给调节机构运动实现往返打磨；所述进给调节机构置于驱动机构伸出臂上用于调节打磨进给量，控制打磨力的大小；所述承载定位机构置于进给调节机构下方用于放置基膜适应不同厚度的基膜；所述辅助导轨机构设置于基座右侧与驱动机构联动起支承进给调节机构的作用。该装置实现了IPMC制备过程中的基膜粗化工艺的自动化，能够实现稳定的基膜粗化工艺。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116922209 A
(43)申请公布日 2023.10.24
(21)申请号 202310953203.1 B24B 41/04 (2006.01)
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