金属内氧化深度及晶间腐蚀深度测定 金相法.pdfVIP

金属内氧化深度或晶间腐蚀深度测定 金相法 重要提示——使用本文件的人员应有正规实验室工作的实践经验。本文并未指出所有可 能的安全问题。使用者有责任采取适当的安全和健康措施，并保证符合国家有关法规规定的 条件。 1 范围 本方法规定了金属内氧化深度或晶间腐蚀深度的金相测定方法。 本方法适用于合金钢、高温合金等金属材料表面内氧化或晶间腐蚀深度的测定。 2 规范性引用文件 下列文件中的条款通过本方法的引用而成为本方法的条款。凡是注日期的引用文件，其 随后所有的修改单（不包括勘误的内容）或修订版均不适用于本方法。凡是不注日期的引用 文件，其最新版本适用于本方法。 GB/T 13298 金属显微组织检验方法 ASTM E3 Standard Guide for Preparation of Metallographic Specimens GB/T 30067 金相学术语 3 术语和定义 GB/T 13298、ASTM E3 界定的术语和定义适用于本方法。以下术语和定义适用于本方 法。 3.1 内氧化 IGO 氧通过扩散进入合金内部，在合金次表面层中实现选择性氧化形成内氧化物的过程。 3.2 内氧化深度 the depth of IGO 从试样表面到次表层内氧化物最深位置的垂直距离。 3.3 晶间腐蚀 IGA 沿着金属晶粒边界或晶界附近发生的腐蚀现象。 3.4 晶间腐蚀深度 the depth of IGA 从试样表面到发生晶间腐蚀最深位置的垂直距离。 4 方法原理 合金钢和高温合金等材料发生内氧化后，氧会在工件表面，沿着晶界向内部渗入并 与合金元素发生反应，产生晶间氧化，晶间氧化的深度就是内氧化的深度。晶间腐蚀同 样会沿着工件表面金属晶粒间的分界面向内部扩展。内氧化以及晶间腐蚀均使得样品表 面组织产生变化，通过显微镜便可以直观的检测出来 （二者形貌表现相似，显微镜无法 区分），内氧化以及晶间腐蚀典型形貌见图1~2。 I 图1 典型内氧化形貌 图2 典型晶间腐蚀形貌 5 取样 首先应对委托试样进行登记和编号，登记内容应包括：委托单位，试样原号，材料 牌号及热处理状态，检验内容和要求等。 试样应在交货状态下检验，不需要进一步热处理。如经有关各方商定，需要采取附 加热处理，则要从多方面注意防止合金元素的分布状态和质量分数的变化，例如：采用 小试样、短的奥氏体化时间、中性的保护气氛等。 试样应从试验件上直接切取。检验部位应具有代表性，取样位置和、检验面方向以 及取样数量应根据材料特性、检验目的和供需双方的协议和标准确定。 对于小尺寸样品(如公称直径不大于25 mm 的金属或边长不大于20mm 的金属)应检 测整个周边，对于大尺寸样品(如公称直径大于25 mm 的金属或边长大于20 mm 的金属) ， 为保证取样的代表性,可截取样品同一截面的一个或几个部位,且保证总检测周长不小于 35 mm。 试样切割注意不要产生易造成判断失误的表面损伤，确保垂直长度满足规定的尺寸 要求。推荐采用水冷砂轮切割、钼丝电火花切割和手锯，避免采用火焰切割等可能引起 材料组织变化和深度残余应力的方法进行取样。确保取样方法不会造成样品组织改变， 且在一个平面上。 6 样品制备 检验表面需按一般金相试样进行磨制抛光，金相样品制备过程参照GB/T 13298 或 ASTM E3 执行，样品需要镶嵌以保护边部。要求试样边缘不允许有剥落、圆角、卷边， 通常试样应当镶嵌或固定在夹持器内，必要时被检试样表面可电镀上一层金属加以保护。 镶嵌样品表面和镶嵌料之间的间隙应小于 10μm，如果间隙超过 10μm，需要重新镶嵌 或更换镶嵌材料。可以使用自动或半自动的制样技术。样品制成抛光态金相试样，试样 制备完成后先在肉眼下进行初步检查，确认被检表面光洁度等是否符合检测要求，然后 在光学显微镜下检查边部状态，包括剥落、圆角、卷边、间隙等是否合规。如果不满足 要求，需要重新制样