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- 2023-10-28 发布于四川
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根据本公开,提供了半导体器件(1,10,20,30,40,50,60),所述半导体器件(1,10,20,30,40,50,60)包括:基材(5,7,17)和半导体多层结构(3,4,9,11,19,23)。该基材包括由Ge制成的层(2,24);以及该半导体多层结构(3,4,9,11,19,23)包括至少一个第一层和至少一个第二层。至少一个第一层由选自下组的材料构成:AlxGai‑xAs,其中x为约0.6,AlxGa1‑x‑yInyAs,其中0≤x≤0.6且0≤y≤0.02,AlxGa1‑x‑yIn
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 111095578 A
(43)申请公布日
2020.05
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