衬底处理装置及其镀膜挡件.pdfVIP

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  • 2023-10-28 发布于四川
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本公开涉及一种衬底处理装置及其镀膜挡件,衬底处理装置的镀膜挡件包括:第一挡件及第二挡件。第一挡件抵接于反应腔室的顶壁或与反应腔室的顶壁设有第一间隙。第二挡件抵接于反应腔室的侧壁或与反应腔室的侧壁设有第二间隙,第二挡件的顶部与第一挡件相连,并环绕第一挡件的边缘周向设置,使第一挡件与第二挡件的顶部形成密封,这样反应腔室内部在真空泵的作用下形成的负压对第一挡件与反应腔室的顶壁之间的第一间隙不产生影响,即第一挡件与反应腔室的顶壁之间的第一间隙不再产生负压气流场,进而便无法将源组件的源气体通过窗口吸入第一

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116949424 A (43)申请公布日 2023.10.27 (21)申请号 202310957414.2 (22)申请日 2023.07.28 (71)申请人 长鑫科技集团股份有限公司 地址

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