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一种筛选光学系统像差敏感度的方法.pdfVIP

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  • 2023-11-04 发布于四川
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一种筛选光学系统像差敏感度的方法.pdf

    本发明涉及光学系统技术领域，具体涉及一种筛选光学系统像差敏感度的方法，通过基于光刻曝光系统针对的图层特征设计测试图形和设定光刻曝光的工艺条件并建立包含光刻曝光质量特征的评价函数，并对光刻曝光质量变化进行评估，得到评估结果；基于评估结果改变光刻投影系统的波像差分布，并对光刻曝光质量进行仿真，结合评价函数完成波像差参数的敏感度分析，得到敏感度分析结果；设置与评价函数对应的敏感度阈值，并对敏感度分析结果中的阈值以上的泽尼克项进行筛选，得到筛选结果；对筛选结果进行控制，得到满足光刻成像性能指标的像差分布

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114114853 A (43)申请公布日 2022.03.01 (21)申请号 202111448235.3 (22)申请日 2021.11.30 (71)申请人 南京诚芯集成电路技术研究院有限

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