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- 2023-11-04 发布于四川
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本发明涉及一种涂布膜形成方法和涂布膜形成装置。提供一种使形成于在表面具有具备高度差的图案的基板的表面整体的涂布膜的表面平坦化的技术。涂布膜形成方法的特征在于，包括以下的工序：涂布膜形成工序，向在表面具有具备高度差的图案的基板的该表面整体供给涂布液来形成涂布膜；加压工序，利用具备覆盖被保持于第一保持部的所述基板的表面整体的平坦面的加压部，使所述平坦面相对地按压所述基板的涂布膜；以及涂布膜固化工序，使表面被平坦化后的所述涂布膜固化。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 110609447 A
(43)申请公布日
2019.12.24
(21)申请号 20191
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